042015-10
电化学清洗是在真空镀膜生产线上常用的一种表面净化方法，分为两种，一种是点解侵蚀，一种是电化学抛光。 电解侵蚀对于侵蚀时间和溶液的要求比较低，比化学侵蚀的效果更好，它分为阳极和阴极，阳极侵蚀是镀件接阳极，在50~60℃下通过氧气气泡的冲击把氧化物去掉，而阴极侵蚀是镀膜接阴极，通...
042015-10
真空镀膜机连续使用半年以上，那么设备的抽速将会明显变慢，那么该怎么去维护呢? 首先，必须要冲入大气，拆去联结水管，将一级喷嘴拧出来，再用汽油将泵腔及泵胆清洗一下，再用清洁剂洗一遍，待水份挥发干后，装好泵胆，重新加入新扩散的泵油，并装回机体，便可重新开机。真空电镀在重新开机时，要特别注意捡漏工作，先观察扩散泵部分真空度是...
212013-11
真空电镀设备的工作条件 真空镀膜设备的正常工作条件是： ①环境温度 10~30℃ ②相对湿度 不大于70% ③冷却水进水温...
052013-12
真空镀膜机的化学成分1.厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。 但...
122013-12
真空电镀设备厂家讲述真空镀膜机的镀膜技术的类型真空镀膜机镀膜一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。真空镀膜机镀膜方法有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。 蒸发镀膜：通过加热蒸发某种物质使其沉积在...
192013-12
真空镀膜机厂家讲述真空镀膜设备的工作环境 真空镀膜设备要在真空条件下工作，真空对环境的要求，一般包括真空设备对所处实验室（或车间）的温度、空气中的微粒等周围环境的要求，和对处于真空状态或真空中的零件或...
302013-12
多弧离子真空镀膜机镀技术是采用阴极电弧蒸发源的一种离子镀技术。阴极电弧蒸发源可以是Ti,AI,Zr,Cr等单相靶材，也可以是由它们组成的多相靶材，多弧离子镀应用面广，实用性强。除了具有其他各种离子镀方法的广泛途外，特别在高速钢刀具镀覆TiN等超硬膜层的应用方面的发展最为迅速，并进入了工业化阶段。 TiN薄膜由于其具有高硬度、低摩擦系数...
042014-01
真空镀膜设备的适用范围真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。在这里，真空电镀设备厂家介绍真空镀膜设备的适...
192014-03
离子束溅射沉积是在离子束技术基础上发展起来的新的成膜技术。按用于薄膜沉积的离子束功能的不同，可分为两类。一类是一次离子束沉积，这时离子束由需要沉积的薄膜组分材料的离子组成，离子能量较低，它们在到达基体后就沉积成膜，又称低能离子束沉积。另一类为二次离子束沉积，离子束是由惰性气体或反应气体的离子组成，离...
192014-03
蒸发系列卷绕镀膜设备主要用于在塑料、布、纸、金属箔等带状材料表面真空蒸镀金属膜。产品广泛用于包装、印刷、防伪、纺织、电子工业等领域。本系列设备具有运行平稳、收放镀膜平齐、膜层均匀、生产周期短、能耗低、操作维护方便、性能稳定等特点 蒸发法真空镀膜的原理 真空镀膜是将固体材料置于真空室内，在真空条...
262014-03
真空镀膜设备膜厚的不均匀性如何处理 膜厚的不均匀性：无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果此位置的膜厚不是绝对均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现...
262014-03
1、设备中的真空管道、静态密封零部件（法兰、密封圈等）的结构形式，应符合GB/T6070的规定。2、在低真空和高真空管道上及真空镀膜室上应安装真空测量规管，分别测量各部位的真空度。当发现电场对测量造成干扰时，应在测量口处安装电场屏蔽装置。3、如果设备使用的主泵为扩散泵时，应在泵的进气口一侧装设有油蒸捕集阱4、设备的镀膜室应设有观察...
